仪器型号日立离子研磨仪 IM4000II
日立离子研磨仪标准机型IM4000Ⅱ能够进行截面研磨和平面研磨。还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能，针对不同样品进行截面研磨。
特点：
1.高效率的截面研磨
IM4000II配备截面研磨能力达到500 µm/h*1以上的高效率离子枪。因此，即使是硬质材料，也可以高效地制备出截面样品。
2.复合型研磨仪
（1）截面研磨
a.即使是由不同硬度以及研磨速度材质所构成的复合材料，也可以通过IM4000Ⅱ制备出平滑的研磨面
b.优化加工条件，降低因离子束所致样品的损伤
c.可装载最大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品
截面研磨的主要用途
a.金属以及复合材料、高分子材料等样品的截面制备
b.含有裂缝和空隙等特定位置的样品截面制备
c.多层样品的截面制备以及对样品EBSD分析的前处理
(2)平面研磨
a.直径约为5mm范围内的均匀加工
b.应用领域广泛
c.最大可装载直径50 mm × 高度25 mm的样品
d.可选择旋转和摆动（±60度，±90度的摆动）2种加工方法
平面研磨的主要用途
a.去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变
b.去除样品表层部分
c.消除因FIB加工所致的损伤层
规格：
| 主要内容 | |
| 使用气体 | 氩气 |
| 氩气流量控制方式 | 质量流量控制 |
| 加速电压 | 0.0~60kV |
| 尺寸 | 616(W)x 736(D)x 312(H) mm |
| 重量 | 主机53 kg+机械泵30 kg |
| 截面研磨 | |
| 最快研磨速度(Si材料) | 500 um/h1以上 |
| 最大样品尺寸 | 20(W)x12(D)x7(H)mm |
| 样品移动范围 | X+7 mm、Y0 ~+3 mm |
| 离子束间歇加工功能 开启/关闭 时间设定范围 |
1秒 ~ 59分59秒 |
| 摆动角度 | +15°、+30°、+40° |
| 广域截面研磨功能 | |
| 平面研磨 | |
| 最大加工范围 | φ32 mm |
| 最大样品尺寸 | 中50 X 25 (H) mm |
| 样品移动范围 | X0~+5 mm |
| 离子束间歇加工功能 开启/关闭 时间设定范围 |
1秒 ~ 59分59秒 |
| 旋转速度 | 1 rpm、25 rpm |
| 摆动角度 | ±60°、±90° |
| 倾斜角度 | 0~ 90° |
1、截面研磨可装载最大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品；
2、平面研磨最大可装载直径50 mm × 高度25 mm的样品。
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